内容简介
本书将先进的激光材料制备技术与提高介电材料的物理性能紧密结合，介绍了作者发明的激光烧结新型Ta2O5基功能陶瓷技术。
采用激光烧结技术制备的新型高介电常数Ta2O5基陶瓷，不仅介电常数高、介质损耗低、温度特性稳定，而且具有光学透明性，可望在介电存储、高温窗口和光波导器件等方面获得广泛应用。全书首先通过对Ta2O5基陶瓷激光辐照效应的介绍，说明了烧结Ta2O5基陶瓷所需的激光器类型、激光功率范围以及光斑尺寸等基本实验条件，并在此基础上采用的合理可行CO2激光烧结Ta2O5基陶瓷的实验方案，系统地阐述了激光烧结Ta2O5基功能陶瓷新技术。同时，对所制备Ta2O5基陶瓷物理性能的改善机理进行了完整分析，阐述了该项技术及其所制备材料的发明意义和推广可行性。
本书具有较强的独创性及先进性，对从事激光加工、功能陶瓷研究的技术人员有着非常重要的参考价值。